在平板顯示器中所有各類(lèi)平板顯示器都要用到各種類(lèi)型的薄膜，而且，幾乎所有類(lèi)型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿(mǎn)足透明電器的要求?？梢院敛豢鋸埖恼f(shuō)，沒(méi)有薄膜技術(shù)，就沒(méi)有平板顯示器件。1．在真空鍍膜機運轉正常情況下，開(kāi)動(dòng)真空鍍膜機時(shí)，必須先開(kāi)水管，工作中應注意水壓。2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應特別注意高壓電線(xiàn)接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。

真空蒸鍍：將潔凈的素材（工件）裝入鍍膜機后，然后將機器室內空氣抽走，達到一定的真空度后，將室內的鎢絲通電加熱，當達到一定的溫度后，鎢絲上所放置的金屬氣化，然后隨著(zhù)室內素材的轉動(dòng)均勻沉積在素材表面，形成金屬膜，一般常見(jiàn)的電鍍金屬：ALSNCU等等，由于各方面的原因，鍍AL和SN是比較流行做做法?，F代建筑門(mén)窗按型材品種大致可分為：塑料窗、復合材料窗、鋁合金窗，其中鋁合金窗是如今我國主要的建筑門(mén)窗產(chǎn)品，在當今建筑中占相當大比重。事實(shí)上無(wú)論從抗風(fēng)壓、水密性、氣密性等性能還是從環(huán)保方面，鋁合金窗都有其優(yōu)越性。

第二：靶毒的影響因素影響靶中的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例，反應氣體過(guò)量就會(huì )導致靶*。反應濺射工藝進(jìn)行過(guò)程中靶表面濺射溝道區域內出現被反應生成物覆蓋或反應生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長(cháng)的過(guò)程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下，參與化合物生成的反應氣體量增加，化合物生成率增加。如果反應氣體量增加過(guò)度，化合物覆蓋面積增加，如果不能及時(shí)調整反應氣體流量，化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制，濺射溝道將進(jìn)一步被化合物覆蓋，當濺射靶被化合物全部覆蓋的時(shí)候，靶完全*，在靶面上沉積一層化合金屬膜。使其很難被再次反應。